馬德里商標國際注冊要提交的申請材料，馬德里綿陽商標注冊成為熱門的國際注冊途徑，但是國內(nèi)企業(yè)對馬德里商標注冊費用尚存疑慮，高額的商標注冊費用常常讓企業(yè)望而止步。那么馬德里商標國際注冊要提交的申請材料有哪些？馬德里商標國際注冊要提交的申請材料馬德里商標國際注冊要提交的申請材料有哪些？

（1）馬德里商標國際注冊申請書；

（2）相應的外文申請書；

（3）國內(nèi)商標注冊證復印件或受理通知書復印件；

（4）申請人資格證明文件，如營業(yè)執(zhí)照復印件、居住證明復印件、身份證件復印件等；

（5）基礎注冊或申請的商標如在國內(nèi)進行過變更、轉(zhuǎn)讓或續(xù)展等后續(xù)業(yè)務，一并提交核準證明復印件；

（6）申請人使用英文名稱的，必須提供使用該英文名稱的證明文件；

（7）委托代理人的，應附送代理委托書；

（8）指定美國的，一并提交MM18表格。

申請發(fā)明專利（如有附圖）或?qū)嵱眯滦蛯＠麜r必須提交說明書附圖，一式兩份（原件及復印件各一份）。

附圖首頁用此頁，續(xù)頁可使用同樣大小和質(zhì)量相當?shù)陌准?。紙張只限使用正面，四周應當留有空白：左?cè)和頂部各25毫米，右側(cè)和底部各15毫米。

郵寄申請文件不得折疊。

圖的布局：

1.附圖應當盡量豎向繪制在圖紙上，彼此明顯分開。當零件橫向尺寸明顯大于豎向尺寸必須水平布置時，應當將附圖的頂部置于圖紙的左邊，一頁圖紙上有兩幅以上的附圖，且有一幅已經(jīng)水平布置時，該頁上其他附圖也應當水平布置。

2.一幅圖無法繪在一張紙上時，可以繪在幾張圖紙上，但應另外繪制一幅縮小比例的整圖，并在此整圖上標明各分圖的位置。

圖的編號附圖總數(shù)在兩幅以上的，應當使用阿拉伯數(shù)字順序編號（此編號與圖的編頁無關），并在編號前冠以“圖”字，例如圖1，圖2。該編號應當標注在相應附圖的正下方。只有一幅圖時不必編號。

圖的繪制

1、應當使用制圖工具和黑色墨水繪制，線條應當均勻清晰、足夠深，不得著色和涂改，不得使用工程藍圖。

2、剖視圖應標明剖視的方向和被剖視的圖的布置。

3、剖面線剖面線間的距離應與剖視圖的尺寸相適應，不得影響圖面整潔（包括附圖標記和標記引出線）。

4、比例圖中各部分應按比例繪制。

5、大小及清晰度應保證在該圖縮小到三分之二時仍能清晰地分辨出圖中的各個細節(jié)，并適合于用照相制版、靜電復印、縮微等方式大量復制。

圖中文字除一些必不可少的詞語外，例如：“水”“蒸氣”“開”“關”“A－A剖面”，圖中不得有其他的注釋。

附圖標記附圖標記當使用阿拉伯數(shù)字編號，申請文件中表示同一組成部分的附圖標記應當一致。但并不要求每一幅圖中的附圖標記連續(xù)，說明書文字部分中未提及的附圖標記不得在附圖中出現(xiàn)。

說明書附圖應當在每頁下框線居中位置順序編寫頁碼。

一、實用新型專利是對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的實用的新的技術方案。實用新型只能保護產(chǎn)品，而不能保護方法。

二、實用新型專利申請分為申請階段、審查階段和授權階段，一般時間為6個月左右，實用新型專利的保護期限為10年。

1、利用專利文件本身規(guī)避

（1）利用專利文件的背景技術、提出的技術問題以及引證文件進行規(guī)避設計：

專利文件的背景技術部分往往會描述一種或多種相關現(xiàn)有技術，并指出它們的不足之處，可以借助于背景技術方案，或通過對背景技術方案進行改進，組合形成新的技術方案來規(guī)避侵權專利。這樣的專利規(guī)避設計利用了專利文件的信息，在此基礎上創(chuàng)造出了不侵犯該專利權的規(guī)避設計方案，值得注意的是，在此過程中要注意避免對其他涉及的專利構(gòu)成侵權。

（2）利用專利文件中的具體實施例進行規(guī)避設計

一般情況下，專利文件的具體實施方式部分會提供多種實施方案，然而其權利要求卻并不一定會完全概括上述這些具體實施方案，這樣的話，我們就可以通過尋找權利要求的概括漏洞，找出可以實現(xiàn)發(fā)明目的，卻未在權利要求中加以概括保護的實施例或通過對這些具體實施方案進行改進，組合形成新的技術方案來規(guī)避侵權專利。這種專利規(guī)避方式需注意專利權人基于專利布局的考慮可能存在其他侵權的專利申請，要確保已檢索完整。

（3）利用禁止反悔原則，借助專利審查相關文件進行規(guī)避設計

根據(jù)禁止反悔原則，專利權人通過對權利要求、說明書的限縮性修改或者意見陳述的方式放棄的保護范圍，在侵犯專利權訴訟中禁止權利人將已放棄的內(nèi)容重新納入專利權的保護范圍，因此，通過查找專利審查相關文件，獲取專利權人放棄的技術方案，這樣規(guī)避設計就事半功倍了。

2、分析專利權利要求進行再設計

（1）減少至少一個該專利權利要求中的技術特征

分析侵權專利權利要求的保護范圍，減少至少一個技術特征進行規(guī)避，以與權利要求不同，根據(jù)侵權判定全面覆蓋原則，不落入專利權的保護范圍。

（2）替換至少一個該專利權利要求中的技術特征

分析侵權專利權利要求的保護范圍，替換至少一個該專利權利要求中的技術特征進行規(guī)避，需要注意的是須考慮這種替換是否會構(gòu)成“等同特征”替換。等同特征是指與所記載的技術特征以基本相同的手段，實現(xiàn)基本相同的功能，達到基本相同的效果，并且本領域的普通技術人員無須經(jīng)過創(chuàng)造性勞動就能夠聯(lián)想到的特征。替換包括要素的替代、組合或拆解方式的改變、部件的調(diào)換等，替換部分技術特征，可能構(gòu)成專利侵權，也可能不構(gòu)成侵權。替換的特征越多，侵權的可能性越小，反之則越大。這是最常見的規(guī)避設計，也是最與專利保護范圍接近的規(guī)避設計。這種方法技術上的難度相對較大，同時也應當把握好規(guī)避設計下限的度的問題。

3、利用自由公知技術進行規(guī)避設計

自由公知技術，即該技術已超過專利保護期限，或保護該技術的專利申請已失效或可被無效，則采用這種自由公知技術不會有侵權風險，一般情況下，優(yōu)先選取國外自由公知技術，但需注意的是采用自由公知技術進行規(guī)避設計一般較為落后，不太滿足研發(fā)需求。

4、利用TRIZ理論進行規(guī)避設計

上述3個方向的專利規(guī)避方法，只是針對目標專利的權利要求內(nèi)容做一些微調(diào)，而TRIZ理論的規(guī)避解決方案有可能完全避開原專利，產(chǎn)生一種新的解決問題的方法，其優(yōu)勢不言而喻。具體地，可參照下述附圖流程進行分析，這種規(guī)避方式需要對TRIZ理論有一個全面的認識，這里就不再詳細分析了。

以上就是專利規(guī)避設計的一些小技巧，知識產(chǎn)權平臺提醒大家，企業(yè)還需要對專利規(guī)避設計的新方案進行專利風險的排查，若發(fā)現(xiàn)存在新的專利侵權風險，則需要繼續(xù)進行新一輪的規(guī)避設計工作流程，如此反復，直到新的規(guī)避設計方案不存在專利侵權風險為止。如果大家對此還有任何疑問，也可免費咨詢知識產(chǎn)權平臺專利顧問，知識產(chǎn)權平臺提供專業(yè)的專利規(guī)避設計服務，可對您的專利申請進行有針對性的調(diào)整和完善，幫助您順利取得專利授權書。

外觀設計專利申請范圍包括哪些？通常，可以構(gòu)成外觀設計的組合有：產(chǎn)品的形狀；產(chǎn)品的圖案；產(chǎn)品的形狀和圖案；產(chǎn)品的形狀和色彩；產(chǎn)品的圖案和色彩；產(chǎn)品的形狀、圖案和色彩。工業(yè)產(chǎn)品形狀含義工業(yè)產(chǎn)品外觀形狀是指對產(chǎn)品造型的設計，也就是指產(chǎn)品外部的點、線、面的移動、變化、組合而呈現(xiàn)的外表輪廓，即對產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)、外形等同時進行設計、制造的結(jié)果；工業(yè)產(chǎn)品外觀圖案含義工業(yè)產(chǎn)品外觀圖案是指由任何線條、文字、符號、色塊的排列或組合而在產(chǎn)品的表面構(gòu)成的圖形。產(chǎn)品的外觀圖案應當是固定、可見的，而不應是時有時無的或者需要在特定的條件下才能看見。

工業(yè)產(chǎn)品色彩含義工業(yè)產(chǎn)品的色彩是指用于產(chǎn)品上的顏色或者顏色的組合，制造該產(chǎn)品所用材料的本色不是外觀設計的色彩。產(chǎn)品的色彩不能獨立構(gòu)成外觀設計，除非產(chǎn)品色彩變化的本身已形成一種圖案。提交文件申請外觀設計專利的文件包括：外觀設計專利請求書、圖片或者照片，各一式兩份。要求保護色彩的，還應當提交彩色圖片或者照片一式兩份。

提交圖片的兩份均為圖片，提交照片的兩份均為照片，不得將圖片和照片混用。如對圖片或照片需要說明的，應該提交外觀設計簡要說明一式兩份。其中照片要的是這個產(chǎn)品的六面視圖，（前視圖、后視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖）和立體圖，要求保護圖案的，應提交展開圖和立體圖；要求保護色彩的，應提交彩色和黑白照片或圖片。圖的大小在3×8厘米到15×22厘米之間。圖片上不能出現(xiàn)陰影或虛線，照片的背景只能有一種顏色，而且照片上除了所要求的外觀設計外，不能有其他任何別的物品。另外，不管提交的是圖片還是照片，各視圖都必須是正視圖。